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• 001 0000516337

• 005 20190922102700.0

• 010 __ |a 978-7-5684-1030-4 |d CNY35.00

• 100 __ |a 20190724d2018 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 320000

• 105 __ |a ak a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究 |A gui ji gao kyang hua wu si gui jie mian huan chong ceng de yan jiu |d = Investigation on the interface and surface reconstruction of bufferlayer of high k oxide on silicon surface |f 杜文汉著 |z eng

• 210 __ |a 镇江 |c 江苏大学出版社 |d 2018.12

• 215 __ |a 123页 |c 图 |d 22cm

• 225 2_ |a 新材料研究系列丛书 |A xin cai liao yan jiu xi lie cong shu

• 306 __ |a 本书由江苏高校品牌专业建设工程资助项目 (TAPP, 项目负责人: 朱锡芳, PPZY2015B129)、“十三五”江苏省重点学科项目-电气工程重点建设学科、2016年度江苏省高校重点实验室建设项目-特种电机研究与应用重点建设实验室、常州市智能感知与无人机应用技术研究重点实验室 (CM20173003)、常州市新能源材料国际联合实验室 (CZ20180015)、常州工学院自然科学基金项目 (YN1710)、江苏省产学研合作项目 (BY2018150) 资助出版

• 314 __ |a 杜文汉, 常州工学院教师, 现任电气与光电工程学院新能源科学与工程系主任, 副教授, 高级工程师, 中国微米纳米技术学会高级会员。

• 320 __ |a 有书目 (第113-123页)

• 330 __ |a 借助STM这个可以提供原子尺度结构和电子态的有力工具, 本书对Sr/Si体系进行了深入的研究, 主要分为以下3个部分: (1) 第一部分: Si (100) 衬底上的 Sr/Si再构; (2) 第二部分: Si (111) 衬底上的Sr/Si 再构;(3) 第三部分: 超薄SrTiO3膜的高温晶化。

• 410 _0 |1 2001 |a 新材料研究系列丛书

• 510 1_ |a Investigation on the interface and surface reconstruction of bufferlayer of high k oxide on silicon surface |z eng

• 606 0_ |a 固体物理学 |A gu ti wu li xue |x 研究

• 690 __ |a O48 |v 5

• 701 _0 |a 杜文汉 |A du wen han |4 著

• 801 _0 |a CN |b 万品图书 |c 20190724

• 905 __ |a LIB |d O48/26