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• 000 00758nam0 2200181 450

• 001 0000370744

• 005 20160427094700.0

• 010 __ |a 978-7-5024-6638-1 |d CNY40.00

• 092 __ |a CNb三新HXSKJ1036-0224

• 200 __ |a 真空镀膜技术与设备 |A Zhen Kong Du Mo Ji Shu Yu She Bei |f 张以忱

• 210 __ |a 北京 |c 冶金工业出版社 |d 2014.08

• 215 __ |a 264页 |d 26cm

• 330 __ |a 全书共分9章，系统地阐述了各种真空镀膜技术的基本概念和应用、真空镀膜机结构及蒸发源、磁控靶的设计计算、薄膜厚度的测量技术、薄膜与表面分析与检测技术；重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术及真空镀膜机设计计算等方面的内容。

• 333 __ |a 科研、技术人员及学校相关专业师生

• 606 __ |a 半导体工艺－镀膜 |A Ban Dao Ti Gong Yi－Du Mo

• 690 __ |a TN305.8 |v 5

• 801 _0 |a CN |b 三新书业 |c 20140904

• 905 __ |a LIB |d TN305.8/1