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• 010 __ |a 978-7-5024-8197-1 |d CNY45.00

• 100 __ |a 20190926d2019 em y0chiy50 ea

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• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 石墨烯基础及氢气刻蚀 |A shi mo xi ji chu ji qing qi ke shi |f 王彬 ... [等] 著

• 210 __ |a 北京 |c 冶金工业出版社 |d 2019.09

• 215 __ |a 133页 |c 图 |d 24cm

• 304 __ |a 题名页题其余责任者: 王宇薇, 王雪娇, 魏颖

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书首先介绍了石墨烯的晶体和能带结构, 石墨烯的制备方法以及在电子器件、热传导、场发射、传感器、复合物和能量存储等方面的应用 ; 然后本书详细介绍了利用CVD法在Mo膜和抛光Cu衬底上制备高质量的石墨烯薄膜 ; 最后详细研究了石墨烯的H2刻蚀现象。

• 606 0_ |a 石墨 |A shi mo |x 纳米材料 |x 研究

• 690 __ |a TB383 |v 5

• 701 _0 |a 王彬 |A wang bin |4 著

• 701 _0 |a 王宇薇 |A wang yu wei |4 著

• 701 _0 |a 王雪娇 |A wang xue jiao |4 著

• 701 _0 |a 魏颖 |A wei ying |4 著

• 801 _0 |a CN |b 安徽时代 |c 20190926

• 905 __ |a LIB |d TB383/180