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• 102 __ |a CN |b 110000

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• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 光学投影曝光微纳加工技术 |A guang xue tou ying pu guang wei na jia gong ji shu |f 姚汉民, 胡松, 邢廷文著 |e |d

• 205 __ |a

• 210 __ |a 北京 |c 北京工业大学出版社 |d 2006

• 215 __ |a [10], 285页 |c 图, 肖像 |d 26cm

• 225 __ |a 电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著 |A dian zi shu、 li zi shu、 guang zi shu wei na jia gong ji shu xi lie zhuan zhu

• 300 __ |a 国家科学技术学术著作出版基金资助

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书是“电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著”之一。书中系列介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用实例和发展前景，特别详细介绍了投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成等。本书可作为微电子设备专

• 410 __ |1 2001 |a 电子束离子束光子束微纳加工技术系列专著

• 606 __ |a 光学投影系统 |A guang xue tou ying xi tong |x 电子束光刻

• 690 __ |a TH761.8 |v 4

• 690 __ |a TN405 |v 4

• 701 __ |a 姚汉民 |A yao han min |4 著

• 701 __ |a 胡松 |A hu song |4 著

• 701 __ |a 邢廷文 |A xing ting wen |4 著

• 801 __ |a CN |b ATSU |c 20070723

• 905 __ |a ASTU |d TH761.8/1

• 915 __ |b 621158-61 |d TH761.8 |e 1 |a