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• 200 1_ |a 真空镀膜技术与设备 |A zhen kong du mo ji shu yu she bei |f 张以忱主编

• 205 __ |a 2版

• 210 __ |a 北京 |c 冶金工业出版社 |d 2021

• 215 __ |a 299页 |c 图 |d 26cm

• 300 __ |a 普通高等教育“十二五”规划教材

• 330 __ |a 本书阐述了各种真空镀膜技术的基本概念、工作原理和应用，真空镀膜结构及蒸发源，磁控靶的设计计算，薄膜厚度的测量技术，薄膜与表面分析和检测技术；重点介绍了近年来出现的一些镀膜新方法与技术，以及真空镀膜机设计计算等方面的内容。

• 606 0_ |a 真空技术 |x 镀膜 |x 高等教育 |j 教材

• 690 __ |a TN305.8 |v 5

• 701 _0 |a 张以忱 |A zhang yi chen |f (1954.7~) |4 主编

• 801 _0 |a CN |b LIB |c 20240421

• 905 __ |a LIB |d TN305.8/1-2