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- 010 __ |a 978-7-121-40226-5 |d CNY79.00
- 100 __ |a 20210105d2021 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 计算光刻与版图优化 |A ji suan guang ke yu ban tu you hua |b 专著 |f 韦亚一[等]著
- 210 __ |a 北京 |c 电子工业出版社 |d 2021
- 215 __ |a 10,238页 |c 图 |d 26cm
- 225 2_ |a 中国科学院大学研究生教学辅导书系列 |A Zhong Guo Ke Xue Yuan Da Xue Yan Jiu Sheng Jiao Xue Fu Dao Shu Xi Lie
- 225 2_ |a 集成电路技术丛书 |A Ji Cheng Dian Lu Ji Shu Cong Shu
- 304 __ |a 著者还有:粟雅娟、董立松、张利斌、陈睿
- 312 __ |a 封面英文题名:Computational lithography and layout optimization
- 330 __ |a 本书内容紧扣先进技术节点集成电路制造的实际情况,涵盖计算光刻与版图优化的发展状态和未来趋势,系统介绍了计算光刻与刻蚀的理论,论述了版图设计与制造工艺的关系,以及版图设计对制造良率的影响,讲述和讨论了版图设计与制造工艺协同优化的概念和方法论,并结合具体实施案例介绍了业界的具体做法。
- 461 _0 |1 2001 |a 中国科学院大学研究生教学辅导书系列
- 461 _0 |1 2001 |a 集成电路技术丛书
- 510 1_ |a Computational lithography and layout optimization |z eng
- 606 0_ |a 集成电路工艺 |A Ji Cheng Dian Lu Gong Yi |x 电子束光刻
- 701 _0 |a 韦亚一 |A wei ya yi |4 著
- 701 _0 |a 粟雅娟 |A su ya juan |4 著
- 701 _0 |a 董立松 |A dong li song |4 著
- 801 _0 |a CN |b LIB |c 20230617
- 905 __ |a LIB |d TN405.98/2