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			- 000 00920nam0 2200241   450 
 
		
			
			
			
			- 010 __ |a 978-7-5646-4806-0 |d CNY48.00
 
		
			
			- 100 __ |a 20210413d2020    em y0chiy50      ea
 
		
			
			
			
			
			
			- 200 1_ |a 磁场下复合电沉积法制备铁-硅镀层 |A ci chang xia fu he dian chen ji fa zhi bei tie - gui du ceng |f 龙琼著
 
		
			
			- 210 __ |a 徐州 |c 中国矿业大学出版社有限责任公司 |d 2020
 
		
			
			
			- 300 __ |a 国家自然科学基金地区科学基金项目资助 贵州理工学院高层次人才科研启动经费项目资助
 
		
			
			- 330 __ |a 本书共分为6章,主要内容包含绪论、FeSi镀层制备方案、无磁场下制备FeSi镀层、水平磁场下制备FeSi镀层、竖直强磁场下制备FeSi镀层以及磁场下电化学研究电沉积铁过程等。
 
		
			
			- 606 0_ |a 含硅合金 |x 镀层 |x 材料制备
 
		
			
			
			- 701 _0 |a 龙琼 |A long qiong |f (1984-) |4 著
 
		
			
			- 801 _0 |a CN |b LIB |c 20240602