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• 010 __ |a 978-7-308-20948-9 |d CNY59.00

• 100 __ |a 20210907d2020 em y0chiy50 ea

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• 102 __ |a CN |b 330000

• 105 __ |a a z 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 半导体薄膜技术与物理 |A ban dao ti bo mo ji shu yu wu li |d Physics and technology of semiconductor thin films |f 叶志镇[等]编著 |z eng

• 205 __ |a 3版

• 210 __ |a 杭州 |c 浙江大学出版社 |d 2020

• 215 __ |a 254页 |c 图，照片 |d 26cm

• 300 __ |a “十二五”普通高等教育本科国家级规划教材 高等院校材料专业系列规划教材 材料科学与工程

• 304 __ |a 编著还有：吕建国、吕斌、张银珠、戴兴良

• 330 __ |a 本书全面系统地介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础，全书共分十一章。第一章概述了真空技术，第二至第八章分别介绍了蒸镀、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延、湿化学合成等各种半导体薄膜的沉积技术，第九章介绍了半导体超晶格、量子阱的基本概念和理论，第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术，第十一章介绍了溶液法技术及发光器件的制备。

• 510 1_ |a Physics and technology of semiconductor thin films |z eng

• 606 0_ |a 半导体膜 |x 薄膜技术 |x 高等教育 |j 教材

• 690 __ |a TN304.055 |v 5

• 701 _0 |a 叶志镇 |A ye zhi zhen |f (1955-) |4 编著

• 801 _0 |a CN |b LIB |c 20240602

• 905 __ |a LIB |d TN304.055/1-3