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• 000 01014nam0 2200265 450

• 001 0000561243

• 005 20220919152100.0

• 010 __ |a 978-7-5639-7683-6 |d CNY56.00

• 100 __ |a 20211111d2021 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a a 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析 |A duo xiang liu xuan zhuan ou he chang zhi bei Si3N4 ke li wu hua guo cheng liu chang fen xi |f 廖达海, 宁翔, 吴南星著

• 210 __ |a 北京 |c 北京工业大学出版社 |d 2021.10

• 215 __ |a 126页 |c 图 |d 24cm

• 320 __ |a 有书目 (第119-126页)

• 330 __ |a 本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程, 同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。

• 606 0_ |a 氮化硅陶瓷 |A dan hua gui tao ci |x 制备

• 690 __ |a TQ174.75 |v 5

• 701 _0 |a 廖达海, |A liao da hai |f 1987- |4 著

• 701 _0 |a 宁翔 |A ning xiang |4 著

• 701 _0 |a 吴南星, |A wu nan xing |f 1968- |4 著

• 801 _0 |a CN |b 安徽时代 |c 20211111

• 905 __ |a LIB |d TQ174.75/13