机读格式显示(MARC)

• 000 01248nam2 2200361 4500

• -01 __gzk0823196

• -09 __zyk0218038

• -98 __bm9

• -99 __tsg01

• 001 0000218013

• 005 20120914152804.5

• 010 __ |a 978-7-03-033246-2 |b 精装 |d CNY136.00

• 100 __ |a 20120914d2012 em y0chiy50 ba

• 101 0_ |a eng

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a a 001yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |d =Thin film shape memory alloys |a 形状记忆合金薄膜 |e fundamentals and device applications |e 基础与器件应用 |f 宫崎修著 |z chi

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2012

• 215 __ |a 25, 459页 |c 图 |d 27cm

• 225 2_ |a 材料科学与应用进展

• 314 __ |a CIP数据题: 宫崎修等著

• 320 __ |a 有书目和索引

• 330 __ |a 本书主要内容包括: 测射沉积TiNi基簿膜的综述 ; TiNi合金中的马氏体相变 ; TiNi薄膜的沉积技术 ; TiNi多层薄膜 ; 晶化与微观组织演化等。

• 410 _0 |1 2001 |a 材料科学与应用进展

• 510 1_ |a 形状记忆合金薄膜 |A Xing Zhuang Ji Yi He Jin Bao Mo |e 基础与器件应用 |z chi

• 517 1_ |a 基础与器件应用 |A Ji Chu Yu Qi Jian Ying Yong

• 606 0_ |a 形状记忆合金 |A Xing Zhuang Ji Yi He Jin |x 薄膜 |x 英文

• 690 __ |a TG139 |v 4

• 701 _0 |a 宫崎修 |A Gong Qi Xiu |4 著

• 801 _0 |a CN |b 安徽新华 |c 20120914

• 905 __ |a ASTU |d TG139/2

• 915 __ |b 2074426 |d TG139 |e 2 |f 1