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• 010 __ |a 978-7-122-45663-2 |b 精装 |d CNY198.00

• 100 __ |a 20240801d2024 em y0chiy50 ea

• 101 1_ |a chi |c eng

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• 200 1_ |a 热丝化学气相沉积技术 |A re si hua xue qi xiang chen ji ji shu |f (日) 松村英树 ... [等] 著 |d = Catalytic chemical vapor deposition |e technology and applications of Cat-CVD |f Hideki Matsumura ... [等] |g 黄海宾, 沈鸿烈等译 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d [2024.6]

• 215 __ |a 345页 |c 图 |d 27cm

• 304 __ |a 题名页题: (日) 松村英树, 梅本弘宣, (美) 卡伦·格利森, (荷) 吕德·施罗普著

• 306 __ |a 本书中文简体字版由Wiley授权化学工业出版社独家出版发行

• 314 __ |a 松村英树, 博士, 日本北陆先端科学技术大学院大学 (JAIST) 材料科学学院荣誉教授。梅本弘宣, 博士, 日本静冈大学工程学院化学与生物工程专业教授。卡伦·格利森, 博士, 美国麻省理工学院Alexander和I. Michael Kasser化学工程教授, 副教务长。

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书系统介绍了Cat-CVD技术, 包括其基本原理、设备设计及应用。具体包括Cat-CVD的物理基础及其等离子增强化学气相沉积的区别、Cat-CVD中化学反应的分析方法及基本原理、Cat-CVD的物理化学基础、Cat-CVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积 (iCVD) 合成有机聚合物、Cat-CVD设备运行中的物理基础与技术、Cat-CVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、Cat-CVD系统中的活性基团及其应用, 最后利用Cat-CVD腔室中产生的活性基团, 在低温下进行半导体掺杂。

• 333 __ |a 本书可供薄膜制备相关研发和技术人员参考使用

• 500 10 |a Catalytic chemical vapor deposition : technology and applications of Cat-CVD |A Catalytic Chemical Vapor Deposition : Technology And Applications Of Cat-cvd |m Chinese

• 606 0_ |a 化学气相沉积 |A hua xue qi xiang chen ji

• 690 __ |a TG174.44 |v 5

• 701 _0 |a 松村英树 |A song cun ying shu |4 著

• 701 _0 |a 梅本弘宣 |A mei ben hong xuan |4 著

• 701 _1 |a 格利森 |A ge li sen |g (Gleason, Karen K.) |4 著

• 702 _0 |a 黄海宾 |A huang hai bin |4 译

• 702 _0 |a 沈鸿烈 |A shen hong lie |4 译

• 801 _0 |a CN |b 湖北三新 |c 20240801

• 905 __ |a LIB |d TG174.44/4