机读格式显示(MARC)

• 000 01364nam2 2200361 4500

• -01 __gzk0318560

• -09 __zyk0201362

• -98 __bm4

• -99 __tsg01

• 001 0000201337

• 005 20101112142241.5

• 010 __ |a 978-7-115-21580-2 |d CNY65.00

• 100 __ |a 20100221d2010 em y0chiy0110 ea

• 101 1_ |a chi |c eng

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a z 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 完美曝光 |9 wan mei pu guang |d = Rick Sammon`s exploring the light |f (美)沙蒙(Rick Sammon)著 |g 张波译 |z eng

• 210 __ |a 北京 |c 人民邮电出版社 |d 2010

• 215 __ |a 14, 215页 |c 彩图 |d 26cm

• 306 __ |a 本书中文简体字版由W.W. Norton & Company公司授权人民邮电出版社出版

• 314 __ |a 责任者Sammon规范汉译姓: 沙蒙

• 330 __ |a 本书讲解了曝光在摄影中的重要作用, 以及获取出色曝光的途径和技法。从直接影响曝光的两大因素——快门速度和光圈开始讲起, 分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等, 并介绍了闪光灯曝光、色彩模式、自然光控制、直方图、Photoshop后期处理等知识。

• 510 1_ |a = Rick Sammon`s exploring the light |z eng

• 606 0_ |a 曝光 |9 pu guang |x 摄影技术

• 606 0_ |a 曝光 |9 pu guang

• 606 0_ |a 摄影技术 |9 she ying ji shu

• 690 __ |a J41 |v 4

• 701 _1 |c (美) |a 沙蒙 |9 sha meng |g (Sammon, Rick) |4 著

• 702 _0 |a 张波 |9 zhang bo |4 译

• 801 __ |c 20101101

• 905 __ |a ASTU |d J41/21

• 915 __ |a ASTU |d J41 |e 21 |b 1703986-7