MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：11
- 题名/责任者:
- 集成电路制造技术/杜中一著
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2016
- ISBN及定价:
- 978-7-122-26284-4/CNY35.00
- 载体形态项:
- 172页:图;24cm
- 个人责任者:
- 杜中一 著
- 学科主题:
- 集成电路工艺
- 中图法分类号:
- TN405
- 书目附注:
- 有书目 (第172页)
- 提要文摘附注:
- 本书全面、系统地介绍了集成电路制造技术, 内容包括集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。书中简要介绍了集成电路制造的基本理论基础, 系统地介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备, 详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。本书以半导体硅材料集成电路制造为主, 兼顾化合物半导体材料集成电路制造。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN405/16 | S3071718 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 流通典藏部 | |
| TN405/16 | S3071719 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | ||
| TN405/16 | S3071720 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 |
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