MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：5
- 题名/责任者:
- 低维半导体材料光解水制氢性能/鞠林著
- 出版发行项:
- 北京:科学技术文献出版社,2022
- ISBN及定价:
- 978-7-5189-9166-2/CNY58.00
- 载体形态项:
- 216页:图;24cm
- 个人责任者:
- 鞠林 (1987-) 著
- 学科主题:
- 半导体材料-光催化-制氢-研究
- 中图法分类号:
- TE624.2
- 中图法分类号:
- TE624
- 责任者附注:
- 鞠林，男，山东高密人，1987年6月生，中共党员，安阳师范学院特聘教授。以第一作者身份发表SCI收录论文23篇。主持国家级项目2项、省部级项目1项、地厅级项目3项。
- 提要文摘附注:
- 本书主要介绍作者近些年来针对一些低维半导体材料光解水制氢性能的理论模拟研究成果和前沿概述。作者主要利用第一性原理中的密度泛函理论，系统地研究了该类材料的激子束缚能、带隙、带边电位、光学吸收谱、载流子迁移率等与光解水直接相关的性质，并通过施加应力、金属原子修饰、构建异质结等方式对其电子结构和光学性质进行调控，以改善其光催化性能。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TE624/5 | S3520355 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） | |
| TE624/5 | S3520356 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） | |
| TE624/5 | S3520357 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） |
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