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题名/责任者:

完美曝光/(美)沙蒙(Rick Sammon)著 张波译

出版发行项:

北京:人民邮电出版社,2010

ISBN及定价:

978-7-115-21580-2/CNY65.00

载体形态项:

14, 215页:彩图;26cm

并列正题名:

= Rick Sammon`s exploring the light

个人责任者:

(美) 沙蒙 (Sammon, Rick) 著

个人次要责任者:

张波 译

学科主题:

曝光-摄影技术

学科主题:

曝光

学科主题:

摄影技术

中图法分类号:

J41

出版发行附注:

本书中文简体字版由W.W. Norton & Company公司授权人民邮电出版社出版

责任者附注:

责任者Sammon规范汉译姓: 沙蒙

提要文摘附注:

本书讲解了曝光在摄影中的重要作用, 以及获取出色曝光的途径和技法。从直接影响曝光的两大因素——快门速度和光圈开始讲起, 分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等, 并介绍了闪光灯曝光、色彩模式、自然光控制、直方图、Photoshop后期处理等知识。

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