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题名/责任者:

集成电路工艺PDK技术:基于华大九天设计平台的PDK开发教程/刘军, 陈展飞, 朱能勇编著

出版发行项:

北京:电子工业出版社,2024.10

ISBN及定价:

978-7-121-48936-5/CNY55.00

载体形态项:

209页:图;26cm

其它题名:

基于华大九天设计平台的PDK开发教程

丛编项:

集成电路系列丛书.电子设计自动化

丛编项:

国产EDA系列教材

个人责任者:

刘军 编著

个人责任者:

陈展飞 编著

个人责任者:

朱能勇 编著

学科主题:

集成电路工艺-教材

中图法分类号:

TN405

书目附注:

有书目 (第209页)

提要文摘附注:

本书共有六个章节, 分别介绍了PDK的背景、PDK的架构、EPDK开发流程、开发实例, 以及验证方法等内容, 并配有相应的习题, 使读者在掌握内容的同时, 可以在日常工作中进行实践。

使用对象附注:

本书适用于从事PDK开发的工程技术人员、需要了解PDK工作原理的集成电路设计工程师和对PDK开发感兴趣的同学

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