MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：37
- 题名/责任者:
- 铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究/孙芳著
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2019
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-7990-9/CNY56.00
- 载体形态项:
- 156页:图;24cm
- 个人责任者:
- 孙芳 著
- 学科主题:
- 铜-金属薄膜-电沉积-制备-研究
- 学科主题:
- 氧化亚铜-金属薄膜-电沉积-制备-研究
- 中图法分类号:
- O614.121
- 中图法分类号:
- TF8
- 中图法分类号:
- O614
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 全书共分9章, 第1章为绪论部分, 第2章介绍了电化学沉积理论和实验, 第3章为电沉积制备Cu2O薄膜的形貌控制, 第4章为Cu2O薄膜的转化, 第5章为Cu2O薄膜的性能研究, 第6章为新型纳米铜薄膜的制备及其在无酶葡萄糖传感器上的应用, 第7章为Cu/SWNTs复合薄膜的制备及其在无酶葡萄糖传感器上的应用, 第8章为枝形氧化亚铜薄膜在无酶葡萄糖传感器上的应用, 第9章为球形粒子聚集的类球形团簇构成的CuO薄膜的制备及其在无酶葡萄糖传感器上的应用。
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 |
| O614/14 | S3289007 | - | 总馆—理学书库（龙湖） | 可借 |
| O614/14 | S3289008 | - | 总馆—理学书库（龙湖） | 可借 |
显示全部馆藏信息