MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:2
- 题名/责任者:
- 试验设计方法在印制电路制造中的应用/陈苑明主编
- 出版发行项:
- 成都:电子科技大学出版社,2024
- ISBN及定价:
- 978-7-5770-0966-7/CNY68.00
- 载体形态项:
- 242页:图;24cm
- 个人责任者:
- 陈苑明 主编
- 学科主题:
- 试验设计-应用-印刷电路-制造-研究
- 中图法分类号:
- TN41
- 一般附注:
- 电子科技大学教改资助支持计划
- 提要文摘附注:
- 本书共七章内容,重点阐述了正交试验设计、因子设计法、单纯形优化法、均匀设计法、回归分析法、响应曲面法等常用试验设计方法的基本内容,并应用于印制电路离子清洗、无氰镀金、激光切割、通孔,盲孔电镀、机械钻孔、激光钻孔、层间压合、陶瓷材料等制造参数的优化,同时在优化案例部分提供了Minitab、DPS等数据处理软件的实际操作指导和数据结果分析方法,力求让读者较为系统地理解和吸收试验设计方法及其在印制电路制造优化中的应用效果。
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
TN41/10 | S4019080 | 总馆—滁州校区自然书库 | 新书:正在上架 | 滁州校区自然书库 | |
TN41/10 | S4019081 | 总馆—滁州校区自然书库 | 新书:正在上架 | 滁州校区自然书库 | |
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