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题名/责任者:

半导体薄膜技术与物理/叶志镇[等]编著

版本说明:

3版

出版发行项:

杭州:浙江大学出版社,2020

ISBN及定价:

978-7-308-20948-9/CNY59.00

载体形态项:

254页:图，照片;26cm

并列正题名:

Physics and technology of semiconductor thin films

个人责任者:

叶志镇 (1955-) 编著

学科主题:

半导体膜-薄膜技术-高等教育-教材

中图法分类号:

TN304.055

一般附注:

“十二五”普通高等教育本科国家级规划教材 高等院校材料专业系列规划教材 材料科学与工程

题名责任附注:

编著还有：吕建国、吕斌、张银珠、戴兴良

提要文摘附注:

本书全面系统地介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础，全书共分十一章。第一章概述了真空技术，第二至第八章分别介绍了蒸镀、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延、湿化学合成等各种半导体薄膜的沉积技术，第九章介绍了半导体超晶格、量子阱的基本概念和理论，第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术，第十一章介绍了溶液法技术及发光器件的制备。

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