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题名/责任者:

摄影曝光入门与提高/(美) 雷维尔(Jeff Revell)著 张婷, 王聪译

出版发行项:

北京:人民邮电出版社,2014

ISBN及定价:

978-7-115-36346-6/CNY59.00

载体形态项:

255页:彩图, 肖像;21cm

统一题名:

Exposure : from snapshots to great shots

个人责任者:

(美) 雷维尔 (Revell, Jeff) 著

个人次要责任者:

张婷 译

个人次要责任者:

王聪 译

学科主题:

曝光-摄影技术

学科主题:

曝光

学科主题:

摄影技术

中图法分类号:

TB811

版本附注:

译自原书第2版

出版发行附注:

本书中文简体字版由美国Peachpit Press授权人民邮电出版社出版

责任者附注:

责任者规范汉译姓: 雷维尔

提要文摘附注:

本书详细讲述了影响摄影曝光的各种元素, 包括光圈、快门、ISO、镜头选择和景深, 并介绍了其他摄影知识。大量优质的数码照片及其拍摄数据和注释, 帮助读者了解如何运用摄影要素拍摄出一张优秀的照片, 掌握各种拍摄情况下如何获得最佳曝光的方法。

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