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题名/责任者:

先进计算光刻/李艳秋 ... [等] 著

出版发行项:

北京:科学出版社,2024.4

ISBN及定价:

978-7-03-078124-6 精装/CNY130.00

载体形态项:

233页:图;25cm

个人责任者:

李艳秋 著

个人责任者:

马旭 著

个人责任者:

孙义钰 著

学科主题:

集成电路工艺-电子束光刻

中图法分类号:

TN405.98

题名责任附注:

题名页题: 李艳秋, 马旭, 孙义钰, 袁森著

出版发行附注:

国家科学技术学术著作出版基金资助出版

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书主要介绍作者在20余年从事光刻机研发中, 建立的先进计算光刻技术, 包括矢量计算光刻、快速-全芯片计算光刻、高稳定-高保真计算光刻、光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻等, 能够实现快速-高精度-全曝光视场-低误差敏感度的高性能计算光刻。矢量计算光刻包括零误差、全光路严格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技术。快速-全芯片计算光刻包括压缩感知、贝叶斯压缩感知、全芯片压缩感知计算光刻技术。高稳定-高保真计算光刻包括低误差敏感度的SMO技术、全视场多目标SMO技术、多目标标量和矢量光瞳优化技术。光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻包括含偏振像差、工件台振动误差、杂散光误差的光刻设备-掩模-工艺多参数协同优化技术。解决传统计算光刻在零误差假设、局域坐标系、理想远心、单个视场点获得的掩模-光源, 无法最佳匹配实际光刻系统之所需, 导致增加工艺迭代时间的问题。

使用对象附注:

本书可供从事光学成像、计算成像、计算光刻、芯片制造工艺、光刻机曝光系统设计-加工-检测-集成协同研制、空间光学、高性能光学仪器等领域的师生、科研人员、工程师、软件开发人员学习

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