MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:32
- 题名/责任者:
- 光学设计实用技术/李澜 ... [等] 编著
- 出版发行项:
- 上海:上海科学技术出版社,2019.1
- ISBN及定价:
- 978-7-5478-4254-6/CNY48.00
- 载体形态项:
- 196页:图;26cm
- 个人责任者:
- 李澜 编著
- 个人责任者:
- 邹军 编著
- 个人责任者:
- 王凤超 编著
- 学科主题:
- 光学设计
- 中图法分类号:
- TN202
- 中图法分类号:
- TN2
- 题名责任附注:
- 题名页题其余责任者: 邹军, 王凤超等
- 书目附注:
- 有书目 (第196页)
- 提要文摘附注:
- 《光学设计实用技术》是以工程光学为基础, 结合成像光学和非成像光学的经典实例, 全面系统地阐述了以ZEMAX光学设计软件作为辅助手段的光学设计实用技术。全书共7章, 层次分明、逻辑清楚、案例详实, 在设计实例中也穿插了LED光学设计的前沿。本书包括基本的像差理论和成像质量评价方法, ZEMAX光学设计软件功能介绍、优化、公差分析、非成像光学设计, 以及大量光学设计实例。
- 使用对象附注:
- 光学设计研究者
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 |
TN2/39 | S3294171 | - | 总馆—工业技术书库(龙湖) | 可借 |
TN2/39 | S3294172 | - | 总馆—工业技术书库(龙湖) | 可借 |
TN2/39 | S3294173 | - | 总馆—工业技术书库(龙湖) | 可借 |
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