MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：24
- 题名/责任者:
- 石墨烯基础及氢气刻蚀/王彬 ... [等] 著
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2019.09
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-8197-1/CNY45.00
- 载体形态项:
- 133页:图;24cm
- 个人责任者:
- 王彬 著
- 个人责任者:
- 王宇薇 著
- 个人责任者:
- 王雪娇 著
- 个人责任者:
- 魏颖 著
- 学科主题:
- 石墨-纳米材料-研究
- 中图法分类号:
- TB383
- 题名责任附注:
- 题名页题其余责任者: 王宇薇, 王雪娇, 魏颖
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书首先介绍了石墨烯的晶体和能带结构, 石墨烯的制备方法以及在电子器件、热传导、场发射、传感器、复合物和能量存储等方面的应用 ; 然后本书详细介绍了利用CVD法在Mo膜和抛光Cu衬底上制备高质量的石墨烯薄膜 ; 最后详细研究了石墨烯的H2刻蚀现象。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 |
| TB383/180 | S3281707 | - | 总馆—自然书库（凤阳） | 可借 |
| TB383/180 | S3281708 | - | 总馆—自然书库（凤阳） | 可借 |
| TB383/180 | S3281709 | - | 总馆—自然书库（凤阳） | 可借 |
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