MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：35
- 题名/责任者:
- 光机约束方程原理及其应用/(美) 爱尔森·E. 汉瑟维著 连华东译
- 出版发行项:
- 北京:国防工业出版社,2021.05
- ISBN及定价:
- 978-7-118-12221-3 精装/CNY79.00
- 载体形态项:
- XI, 131页:图;24cm
- 个人责任者:
- 汉瑟维 (Hatheway, Alson E.) 著
- 个人次要责任者:
- 连华东 译
- 学科主题:
- 光学系统-系统设计
- 中图法分类号:
- O43
- 一般附注:
- 装备科技译著出版基金
- 书目附注:
- 有书目 (第131页)
- 提要文摘附注:
- 本书主要内容包括光学函数基础知识、光学影响函数、光机约束方程原理、光机约束方程在各种光学元件中的应用、光机约束方程计算方法、分析验证方法等, 另外, 书中还给出了光机约束原理在具体光机系统设计实践中的应用案例, 诸如光学成像相关器、光纤扩频编码器、红外成像仪等。
全部MARC细节信息>>
| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| O43/89 | S3433563 | 总馆—理学书库（龙湖） | 可借 | 流通典藏部 | |
| O43/89 | S3433564 | 总馆—理学书库（龙湖） | 可借 | 理学书库（龙湖） | |
| O43/89 | S3433565 | 总馆—理学书库（龙湖） | 可借 | 理学书库（龙湖） |
显示全部馆藏信息