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题名/责任者:

图解入门:半导体工程学精讲/(日)原明人著 李哲洋[等]译

出版发行项:

北京:机械工业出版社,2025

ISBN及定价:

978-7-111-76739-8/CNY109.00

载体形态项:

10,308页:图;24cm

其它题名:

半导体工程学精讲

丛编项:

集成电路科学与技术丛书

个人责任者:

(日) 原明人 著

个人次要责任者:

李哲洋 译

个人次要责任者:

于乐 译

学科主题:

半导体工艺-图解

中图法分类号:

TN305

题名责任附注:

译者还有：于乐、魏晓光、母春航

出版发行附注:

本书由日本讲谈社正式授权

责任者附注:

原明人，博士 (理学)，1983年毕业于东京理科大学理学部第1部应用物理学科，1985年在日本东北大学理学研究科物理专业修完了博士课程前期，现任教于东北学院大学工学部电气电子工学科 (教授)。李哲洋，博士生导师，研究员，教授级高级工程师。现任怀柔实验室北京智慧能源研究院资深技术专家。于乐，博士，副研究员，毕业于南京大学电子科学与工程学院电子科学与技术专业。

提要文摘附注:

本书首先深入探讨了量子力学基础及其在物质、能带理论、半导体和集成电路等领域的应用。从电子的波动性质、不确定性原理到量子隧穿效应，逐步揭示量子世界的奥秘。接着，通过能带理论和半导体能带结构的解析，阐明了半导体材料的电子行为。此外，还详细介绍了掺杂半导体、晶格振动以及载流子输运现象等关键概念。最后，探讨了MOS结构、场效应晶体管以及集成电路的工作原理，为读者提供了从基础到应用的全面视角。

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