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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:26

题名/责任者:
光学设计实用技术/李澜 ... [等] 编著
出版发行项:
上海:上海科学技术出版社,2019.1
ISBN及定价:
978-7-5478-4254-6/CNY48.00
载体形态项:
196页:图;26cm
个人责任者:
李澜 编著
个人责任者:
邹军 编著
个人责任者:
王凤超 编著
学科主题:
光学设计
中图法分类号:
TN202
中图法分类号:
TN2
题名责任附注:
题名页题其余责任者: 邹军, 王凤超等
书目附注:
有书目 (第196页)
提要文摘附注:
《光学设计实用技术》是以工程光学为基础, 结合成像光学和非成像光学的经典实例, 全面系统地阐述了以ZEMAX光学设计软件作为辅助手段的光学设计实用技术。全书共7章, 层次分明、逻辑清楚、案例详实, 在设计实例中也穿插了LED光学设计的前沿。本书包括基本的像差理论和成像质量评价方法, ZEMAX光学设计软件功能介绍、优化、公差分析、非成像光学设计, 以及大量光学设计实例。
使用对象附注:
光学设计研究者
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索书号 条码号 年卷期 校区—馆藏地 书刊状态
TN2/39 S3294171  - 总馆—工业技术书库(龙湖)     可借
TN2/39 S3294172  - 总馆—工业技术书库(龙湖)     可借
TN2/39 S3294173  - 总馆—工业技术书库(龙湖)     可借
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