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MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：10

题名/责任者:
集成电路制造工艺/林明祥编著
出版发行项:
北京:机械工业出版社,2005
ISBN及定价:
7-111-17300-7/CNY24.00
载体形态项:
255页;26cm
个人责任者:
编著 林明祥 (电子信息技术)
学科主题:
集成电路工艺-教材-高等教育
学科主题:
集成电路工艺
中图法分类号:
TN405
一般附注:
21世纪高职高专系列教材 电子技术专业
提要文摘附注:
本书共15章，介绍了硅单晶制备；外延、氧化、溅射、化学气相淀积等薄膜制备技术；扩散、离子注入等掺杂技术；制版、光刻、刻蚀、CAD等图形加工技术等。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 校区—馆藏地 书刊状态 还书位置
TN405/2 S427322   总馆—凤阳校区密集书库（新馆）     可借 凤阳校区密集书库（新馆）
TN405/2 S427324   总馆—凤阳校区密集书库（新馆）     可借 凤阳校区密集书库（新馆）
TN405/2 S427323   总馆—滁州校区密集书库二区     可借 滁州校区密集书库二区
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