MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：15
- 题名/责任者:
- 多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析/廖达海, 宁翔, 吴南星著
- 出版发行项:
- 北京:北京工业大学出版社,2021.10
- ISBN及定价:
- 978-7-5639-7683-6/CNY56.00
- 载体形态项:
- 126页:图;24cm
- 个人责任者:
- 廖达海, 1987- 著
- 个人责任者:
- 宁翔 著
- 个人责任者:
- 吴南星, 1968- 著
- 学科主题:
- 氮化硅陶瓷-制备
- 中图法分类号:
- TQ174.75
- 书目附注:
- 有书目 (第119-126页)
- 提要文摘附注:
- 本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程, 同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TQ174.75/13 | S3432393 | 总馆—理学书库（龙湖） | 可借 | 理学书库（龙湖） | |
| TQ174.75/13 | S3432394 | 总馆—理学书库（龙湖） | 可借 | 理学书库（龙湖） | |
| TQ174.75/13 | S3432395 | 总馆—理学书库（龙湖） | 可借 | 理学书库（龙湖） |
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