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题名/责任者:

半导体晶片清洗:科学、技术与应用/(美) Werner Kern主编 陆晓东 ... [等] 译

出版发行项:

北京:电子工业出版社,2012

ISBN及定价:

978-7-121-17397-4/CNY98.00

载体形态项:

350页:图;26cm

统一题名:

Handbook of semiconductor wafer cleaning technology : science, technology, and applications

其它题名:

科学、技术与应用

丛编项:

国外电子与通信教材系列

个人责任者:

克恩 (Kern, Werner), 1925- 主编

个人次要责任者:

陆晓东 译

学科主题:

半导体晶体-清洗技术-教材

中图法分类号:

TN304

出版发行附注:

由Elsevier (Singapore) Pte Ltd.授权

责任者附注:

责任者规范汉译姓: 克恩

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书共分为五部分十三章, 详细介绍了与分立半导体器件及超大规模集成电路芯片制造相关的各种晶片清洗技术, 着重讲解了这些清洗技术的发展过程、基本原理和实际应用问题。

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