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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:6

题名/责任者:
形状记忆合金薄膜:fundamentals and device applications/宫崎修著
出版发行项:
北京:科学出版社,2012
ISBN及定价:
978-7-03-033246-2 精装/CNY136.00
载体形态项:
25, 459页:图;27cm
并列正题名:
形状记忆合金薄膜:基础与器件应用
其它题名:
基础与器件应用
丛编项:
材料科学与应用进展
个人责任者:
宫崎修
学科主题:
形状记忆合金-薄膜-英文
中图法分类号:
TG139
责任者附注:
CIP数据题: 宫崎修等著
书目附注:
有书目和索引
提要文摘附注:
本书主要内容包括: 测射沉积TiNi基簿膜的综述 ; TiNi合金中的马氏体相变 ; TiNi薄膜的沉积技术 ; TiNi多层薄膜 ; 晶化与微观组织演化等。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 校区—馆藏地 书刊状态
TG139/2 S2074426   总馆—自然书库(凤阳)     可借
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