- 题名/责任者:
- 新型共路干涉仪/杨甬英, 凌曈著
- 出版发行项:
- 杭州:浙江大学出版社,2020.07
- ISBN及定价:
- 978-7-308-18571-4 精装/CNY148.00
- 载体形态项:
- 266页:彩图;24cm
- 个人责任者:
- 杨甬英 著
- 个人责任者:
- 凌曈 著
- 学科主题:
- 光学干涉仪
- 中图法分类号:
- TH744
- 一般附注:
- 国家科学技术学术著作出版基金资助项目
- 相关题名附注:
- 英文题名取自封面
- 责任者附注:
- 杨甬英, 浙江大学光电学院教授、博导。凌曈, 斯坦福大学汉森特理实验室、斯坦福医学院眼系博士生研究员。
- 书目附注:
- 有书目和索引
- 提要文摘附注:
- 本书介绍了光的电磁波特性等基础理论, 描述了标量衍射理论、矢量衍射理论及电磁场衍射的数值计算方法, 研究了共路干涉波前模型及干涉条纹解调技术、高精度波前检测的共路及准共路点衍射干涉技术、基于随机编码混合光栅的四波前横向剪切干涉术、同轴和离轴的环形径向剪切干涉体系及波前重构理论和算法, 最后介绍了一些目前国内外常用的共路干涉系统, 如米勒干涉系统、4D干涉系统及双焦干涉体系。
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
TH744/3 | S3430445 | 总馆—工业技术书库(龙湖) | 可借 | 工业技术书库(龙湖) | |
TH744/3 | S3430446 | 总馆—工业技术书库(龙湖) | 可借 | 工业技术书库(龙湖) | |
TH744/3 | S3430447 | 总馆—工业技术书库(龙湖) | 可借 | 工业技术书库(龙湖) |
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