- 题名/责任者:
- 真空环境下光学薄膜的激光损伤/凌秀兰著
- 出版发行项:
- 北京:北京理工大学出版社,2018.04
- ISBN及定价:
- 978-7-5682-5523-3/CNY49.00
- 载体形态项:
- 144页, [3] 页图版:图 (部分彩图);24cm
- 个人责任者:
- 凌秀兰 著
- 学科主题:
- 光学薄膜-激光损伤
- 中图法分类号:
- TB43
- 责任者附注:
- 凌秀兰, 中北大学信息与通信工程学院副教授, 中国科学院上海光学精密机械研究所博士。
- 书目附注:
- 有书目 (第134-144页)
- 提要文摘附注:
- 本书主要阐述光学薄膜在真空和空间环境中激光损伤特性及其损伤机理和改进技术。内容包括: 真空环境下光学薄膜损伤测量的实验系统、光学薄膜损伤测量方法、损伤阈值的定义及损伤的判定; 真空系统中光学薄膜元件激光损伤行为及特性; 真空环境中光学薄膜在激光辐照下光、热、力耦合损伤过程, 缺陷诱导损伤过程以及有机污染诱导光学薄膜的激光损伤过程, 真空环境下光学薄膜的本征损伤机理以及有机污染诱导光学薄膜激光损伤的机理; 同时, 阐述了热退火和激光预处理两种后处理方法对真空环境下光学薄膜激光损伤的影响, 对改善真空环境中光学薄膜元件抗激光损伤降级的技术途径也作了介绍。
全部MARC细节信息>>
索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 |
TB43/19 | S3266447 | - | 总馆—工业技术书库(龙湖) | 可借 |
TB43/19 | S3266448 | - | 总馆—工业技术书库(龙湖) | 可借 |
TB43/19 | S3266449 | - | 总馆—工业技术书库(龙湖) | 可借 |
显示全部馆藏信息