首记录 上一条 1 / 2 下一条 尾记录
MARC状态：已编
文献类型：中文图书 浏览次数：10
- 题名/责任者:
- 真空镀膜技术与设备/张以忱
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2014.08
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-6638-1/CNY40.00
- 载体形态项:
- 264页;26cm
- 学科主题:
- 半导体工艺－镀膜
- 中图法分类号:
- TN305.8
- 提要文摘附注:
- 全书共分9章，系统地阐述了各种真空镀膜技术的基本概念和应用、真空镀膜机结构及蒸发源、磁控靶的设计计算、薄膜厚度的测量技术、薄膜与表面分析与检测技术；重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术及真空镀膜机设计计算等方面的内容。
- 使用对象附注:
- 科研、技术人员及学校相关专业师生
-
- 豆瓣简介：
-
全部MARC细节信息>>
| 索书号 |
条码号 |
年卷期 |
校区—馆藏地 |
书刊状态 |
还书位置 |
| TN305.8/1 |
S2481812 |
|
总馆—滁州校区密集书库二区
|
可借 |
滁州校区密集书库二区 |
| TN305.8/1 |
S2481813 |
|
总馆—滁州校区密集书库二区
|
可借 |
滁州校区密集书库二区 |
| TN305.8/1 |
S2481814 |
|
总馆—滁州校区密集书库二区
|
可借 |
滁州校区密集书库二区 |
显示全部馆藏信息
借阅趋势
