MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：12
- 题名/责任者:
- 二氧化硅低维微/纳米材料的制备及其光学性能/吕航, 杨喜宝著
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2023
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-9616-6/CNY51.00
- 载体形态项:
- 108页:图;24cm
- 个人责任者:
- 吕航 著
- 个人责任者:
- 杨喜宝 著
- 学科主题:
- 光学性能-纳米材料-材料制备-研究
- 中图法分类号:
- TB383
- 相关题名附注:
- 英文题名取自封面
- 书目附注:
- 有书目 (第103-108页)
- 提要文摘附注:
- 本书对制备方法和机制进行实验分析, 探索低维纳米结构和性能的影响因素, 为纳米材料功能器件的设计具有重要指导性意义。二氧化硅微/纳米材料是纳米材料中非常重要的一员, 其在光致发光, 透明绝缘, 光化学, 光波导和生物医学等领域具有广泛的应用视野, 它具有优异的物理力学性能和独特的微/纳米结构性能。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TB383/275 | S3889963 | 总馆—滁州校区自然书库 | 可借 | 滁州校区自然书库 | |
| TB383/275 | S3889964 | 总馆—滁州校区自然书库 | 可借 | 滁州校区自然书库 | |
| TB383/275 | S3889965 | 总馆—滁州校区自然书库 | 可借 | 滁州校区自然书库 | |
| TB383/275 | S3834735 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） | |
| TB383/275 | S3834736 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） | |
| TB383/275 | S3834737 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） |
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