- 题名/责任者:
- 纳米材料的X射线分析/程国峰, 杨传铮编著
- 版本说明:
- 第2版
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2019.06
- ISBN及定价:
- 978-7-122-33416-9/CNY88.00
- 载体形态项:
- 351页:图;24cm
- 个人责任者:
- 程国峰 编著
- 个人责任者:
- 杨传铮 编著
- 学科主题:
- 纳米材料-X射线-分析
- 中图法分类号:
- TB383
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书主要介绍利用X射线等激发样品从而表征材料结构, 特别是纳米材料晶体结构相关信息的专著。考虑到纳米材料的特殊性, 本书分为三个部分: 晶体学基础、X射线衍射理论基础、X射线实验装置和方法等四章为基础部分; 中间部分是X射线衍射分析方法和应用, 包括物相定性和定量、晶体学参数测定、纳米材料微结构的衍射线形分析、Rietveld结构精修和小角散射等; 最后介绍了化学组成和原子价态、纳米薄膜和介孔材料等的X射线分析。
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索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 |
TB383/59-2 | S3269497 | - | 总馆—工业技术书库(龙湖) | 可借 |
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