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MARC状态:订购 文献类型:中文图书 浏览次数:8

题名/责任者:
真空镀膜技术与设备/张以忱主编
版本说明:
2版
出版发行项:
北京:冶金工业出版社,2021
ISBN及定价:
978-7-5024-8880-2/CNY49.00
载体形态项:
299页:图;26cm
个人责任者:
张以忱 (1954.7-) 主编
学科主题:
真空技术-镀膜-高等教育-教材
中图法分类号:
TN305.8
一般附注:
普通高等教育“十二五”规划教材
提要文摘附注:
本书阐述了各种真空镀膜技术的基本概念、工作原理和应用,真空镀膜结构及蒸发源,磁控靶的设计计算,薄膜厚度的测量技术,薄膜与表面分析和检测技术;重点介绍了近年来出现的一些镀膜新方法与技术,以及真空镀膜机设计计算等方面的内容。
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