MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：11
- 题名/责任者:
- 集成电路制造技术:原理与工艺/王蔚，田丽，任明远编著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2010
- ISBN及定价:
- 978-7-121-11751-0/CNY39.80
- 载体形态项:
- 395页:图;26cm
- 丛编项:
- 电子信息与电气学科规划教材.电子科学与技术类
- 个人责任者:
- 王蔚 编著
- 个人责任者:
- 田丽 编著
- 个人责任者:
- 任明远 编著
- 学科主题:
- 集成电路工艺-高等学校-教材
- 中图法分类号:
- TN405
- 提要文摘附注:
- 全书分5个单元。第1单元介绍硅衬底，主要介绍硅单晶的结构特点，单晶硅锭的拉制及硅片（包含体硅片和外延硅片）的制造工艺及相关理论。第2～5单元介绍硅芯片制造基本单项工艺（氧化与掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试）的原理、方法、设备，以及所依托的技术基础及发展趋势。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 |
| TN405/5 | S2198236 | 总馆—自然书库（凤阳） | 可借 | |
| TN405/5 | S2198237 | 总馆—自然书库（凤阳） | 可借 | |
| TN405/5 | S2198238 | 总馆—自然书库（凤阳） | 可借 |
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