MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：14
- 题名/责任者:
- 等离子体刻蚀工艺及设备/赵晋荣主编 蒋中伟[等]参编
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2023
- ISBN及定价:
- 978-7-121-45018-1 精装/CNY98.00
- 载体形态项:
- 14,164页:图;25cm
- 个人责任者:
- 赵晋荣 主编
- 个人次要责任者:
- 蒋中伟 参编
- 个人次要责任者:
- 林源为 参编
- 学科主题:
- 等离子刻蚀-工艺学
- 学科主题:
- 等离子刻蚀-设备
- 中图法分类号:
- TN305
- 题名责任附注:
- 参编还有：林源为、韦刚、李兴存、唐希文
- 相关题名附注:
- 封面英文题名：Plasma etching process and apparatus
- 提要文摘附注:
- 本书以集成电路领域中的等离子体刻蚀为切入点，介绍了等离子体基础知识、基于等离子体的刻蚀技术、等离子体刻蚀设备及其在集成电路中的应用。全书共8章，内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的等离子体刻蚀工艺、集成电路封装中的等离子体刻蚀工艺、等离子体刻蚀机、等离子体测试和表征、等离子体仿真、颗粒控制和量产。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN305/15 | S3518809 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） | |
| TN305/15 | S3518810 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） | |
| TN305/15 | S3518811 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） |
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