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MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：9

题名/责任者:
再见，牛津与剑桥/胡绍学著
出版发行项:
北京:北京联合出版公司,2017
ISBN及定价:
978-7-5502-9865-1/CNY68.00
载体形态项:
319页:图;23cm
丛编项:
建筑与文化随笔集
个人责任者:
胡绍学 (1936-) 著
学科主题:
随笔-作品集-中国-当代
中图法分类号:
I267.1
提要文摘附注:
本书作者回忆了自己的一生，以一学者和旅行者的身份回忆和记载求学时光，用文字和绘画描绘著名建筑，记录人生经历，反思历史事件。
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索书号 条码号 年卷期 校区—馆藏地 书刊状态 还书位置
I267.1/1097 S3197223  - 总馆—文艺书库（龙湖）     可借 流通典藏部
I267.1/1097 S3197224  - 总馆—文艺书库（龙湖）     可借 流通典藏部
I267.1/1097 S3197225  - 总馆—文艺书库（龙湖）     可借 流通典藏部
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