MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：20
- 题名/责任者:
- 折射衍射微光学结构的单步光刻与湿法蚀刻原理与应用/张新宇, 谢长生著
- 出版发行项:
- 北京:国防工业出版社,2021.10
- ISBN及定价:
- 978-7-118-12284-8 精装/CNY169.00
- 载体形态项:
- 211页:图;24cm
- 丛编项:
- 现代微纳光学光电成像探测技术丛书
- 个人责任者:
- 张新宇 著
- 个人责任者:
- 谢长生 著
- 学科主题:
- 刻蚀-研究
- 中图法分类号:
- TN405
- 书目附注:
- 有书目 (第209-211页)
- 提要文摘附注:
- 本书主要内容包括: 折射和衍射微光学变换, 准连续相位分布的衍射微光学结构, 适用于毫米级近场的衍射微光学结构, 可见光、红外线以及多谱光学强度图像, 复杂波前基础理论 ; 衍射微光学结构的设计与仿真, 单步光刻和两步法KOH湿法蚀刻, 微光学图像, 波前结构的设计与工艺、测试与评估等 ; 宽频激光对抗条件下的非相干成像探测, 强度图像与复杂波前出射的基本方法 ; 激光图像发射、静态或动态图像与波前仿真环境构建, 图像隐身、基于频谱空间分离的成像探测对抗等。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN405/25 | S3434124 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） | |
| TN405/25 | S3434125 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） | |
| TN405/25 | S3434126 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） |
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