安徽科技学院图书馆书目检索系统

Online Public Access Catalogue

题名/责任者:

极紫外光刻/(美) 哈利·杰·莱文森著 高伟民译

出版发行项:

上海:上海科学技术出版社,2022.09

ISBN及定价:

978-7-5478-5721-2/CNY128.00

载体形态项:

206页:图 (部分彩图);24cm

统一题名:

Extreme ultraviolet lithography

个人责任者:

莱文森 (Levinson, Harry J.) 著

个人次要责任者:

高伟民 译

学科主题:

紫外线-光刻系统-研究

中图法分类号:

TN305

一般附注:

元基石

责任者附注:

哈利·杰·莱文森, 国际光学工程学会会士, HJL Lithography的独立光刻顾问和首席光刻师。

书目附注:

有书目和索引

提要文摘附注:

本书是一本论述极紫外光刻技术的最新的专著, 该书全面而又精炼地介绍了极紫外光刻技术的各个方面及其发展历程, 内容不但涵盖极紫外光源、极紫外光刻曝光系统、极紫外掩模板、极紫外光刻胶、极紫外计算光刻等技术内容, 还介绍了极紫外光刻生态系统的其他方面, 如极紫外光刻工艺特点和工艺控制, 极紫外光刻量测的特殊要求, 以及对技术发展路径有着重要影响的极紫外光刻的成本分析等内容, 最后作者还讨论了满足未来的芯片工艺节点要求的极紫外光刻技术发展方向。

豆瓣简介：