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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:24

题名/责任者:
Through-silicon vias for 3D integration/(美) John H. Lau著 曹立强, 秦飞, 王启东中文导读
出版发行项:
北京:科学出版社,2014
ISBN及定价:
978-7-03-039330-2/CNY150.00
载体形态项:
xxxxvi, 487页:图;24cm
并列正题名:
硅通孔3D集成技术
丛编项:
信息科学技术学术著作丛书
个人责任者:
刘汉诚 (Lau, John H.)
个人次要责任者:
王启东 中文导读
个人次要责任者:
秦飞 中文导读
个人次要责任者:
曹立强 中文导读
学科主题:
硅基材料-英文
中图法分类号:
TN405
书目附注:
有书目和索引
提要文摘附注:
本书系统讨论用于电子、光电子和MEMS器件的三维集成硅通孔(TSV)技术的最新进展和未来可能的演变趋势,同时详尽讨论三维集成关键技术中存在的主要工艺问题和可能的解决方案。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 校区—馆藏地 书刊状态
TN405/8 S2357586   总馆—自然书库(凤阳)     可借
TN405/8 S2357587   总馆—自然书库(凤阳)     可借
TN405/8 S2357588   总馆—自然书库(凤阳)     可借
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