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题名/责任者:

实用X射线光谱分析/高新华[等]编著

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2017.02

ISBN及定价:

978-7-122-27959-0 精装/CNY128.00

载体形态项:

365页:图;24cm

个人责任者:

高新华 编著

学科主题:

X射线荧光光谱法-荧光分析

中图法分类号:

O657

提要文摘附注:

本书是现代X射线光谱分析综合性参考书。全书共分十七章，系统介绍X射线的物理基础、基本性质、激发、色散、探测与测量，波长色散与能量色散光谱仪，基体效应、光谱背景和谱线重叠，样品制备，定性与半定量分析，实验校正法、数学校正法定量分析，薄膜和镀层厚度分析、应用实例及分析误差与不确定度等内容。附录列举了X射线荧光光谱分析常用的物理常数、相关数据等，供读者参考使用。

使用对象附注:

本书适用于从事X射线光谱分析的专业人员及相关工程技术人员及相关专业师生、研究生及科研院所工程技术人员

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