MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：10
- 题名/责任者:
- MOS集成电路工艺与制造技术/潘桂忠编著
- 出版发行项:
- 上海:上海科学技术出版社,2012.6
- ISBN及定价:
- 978-7-5478-0980-8/CNY85.00
- 载体形态项:
- 489页:图;26cm
- 个人责任者:
- 潘桂忠, 1959- 编著
- 学科主题:
- MOS基础电路-基础电路工艺
- 中图法分类号:
- TN432.05
- 责任者附注:
- 潘桂忠, 1959年毕业于南京大学物理系半导体物理专业, 高级工程师, 贝岭微电子公司原技术工程部经理。
- 书目附注:
- 有书目 (第489页)
- 提要文摘附注:
- 本书全面介绍了MOS集成电路工艺和制造技术。内容包括: 硅晶圆衬底, 氧化, 扩散, 离子注入, 外延, 化学汽相淀积, 光刻, 付蚀与刻蚀等, PNOS, NMOS, CMOS, LV HV兼容CMOS等制造工艺。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 |
| TN432.05/1 | S2197763 | 总馆—自然书库（凤阳） | 可借 | |
| TN432.05/1 | S2197764 | 总馆—自然书库（凤阳） | 可借 | |
| TN432.05/1 | S2197765 | 总馆—自然书库（凤阳） | 可借 |
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