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MARC状态：已编 文献类型：中文图书 浏览次数：10

题名/责任者:
集成电路制造技术/王蔚，田丽，任明远编著
出版发行项:
:北京,2013.07
ISBN及定价:
978-7-121-20680-1/CNY42.00
中图法分类号:
TN405
提要文摘附注:
本书分5个单元系统地介绍了当前硅集成电路制造普遍采用的工艺技术。第1单元介绍硅衬底，主要介绍硅单晶的结构特点，单晶硅锭的拉制，硅片(包含体硅片和外延硅片)的制造工艺及相关理论。第2-5单元介绍硅芯片制造基本单项工艺(氧化与掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试)的原理、方法、设备，以及所依托的技术基础及发展趋势。
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TN405/6 S2351377   总馆—凤阳校区密集书库（新馆）     可借 凤阳校区密集书库（新馆）
TN405/6 S2351375   总馆—自然书库（凤阳）     可借
TN405/6 S2351376   总馆—自然书库（凤阳）     可借
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