MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：6
- 题名/责任者:
- 计算光刻与版图优化/韦亚一[等]著
- 出版发行项:
- 北京:电子工业出版社,2021
- ISBN及定价:
- 978-7-121-40226-5/CNY79.00
- 载体形态项:
- 10,238页:图;26cm
- 丛编项:
- 中国科学院大学研究生教学辅导书系列
- 丛编项:
- 集成电路技术丛书
- 个人责任者:
- 韦亚一 著
- 个人责任者:
- 粟雅娟 著
- 个人责任者:
- 董立松 著
- 学科主题:
- 集成电路工艺-电子束光刻
- 中图法分类号:
- TN405.98
- 题名责任附注:
- 著者还有：粟雅娟、董立松、张利斌、陈睿
- 相关题名附注:
- 封面英文题名：Computational lithography and layout optimization
- 提要文摘附注:
- 本书内容紧扣先进技术节点集成电路制造的实际情况，涵盖计算光刻与版图优化的发展状态和未来趋势，系统介绍了计算光刻与刻蚀的理论，论述了版图设计与制造工艺的关系，以及版图设计对制造良率的影响，讲述和讨论了版图设计与制造工艺协同优化的概念和方法论，并结合具体实施案例介绍了业界的具体做法。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN405.98/2 | S3518047 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） | |
| TN405.98/2 | S3518048 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） | |
| TN405.98/2 | S3518049 | 总馆—工业技术书库（龙湖） | 可借 | 工业技术书库（龙湖） |
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